Çin'in ASML Litografi Cihazını Tersine Mühendislik Girişimi

Çinli bir şirketin, ABD yaptırımlarını aşmak amacıyla ASML'nin DUV litografi cihazını söküp tersine mühendislik yapmaya çalıştığı iddia ediliyor. Şirket, cihazı sökerken hasar vermiş ve ardından ASML'den onarım için teknik destek istemiş. ASML teknisyenleri, cihazın sökülüp yeniden monte edilmeye çalışılırken bozulduğunu tespit etmiş. ASML'nin sistemi onarıp onarmayacağı belirsizliğini korurken, bazı Çinli yorumcular tersine mühendisliğin Çin'in yarı iletken teknolojisini geliştirmesinin tek gerçekçi yolu olduğunu belirtiyor. Çinli araştırmacıların, özellikle karmaşık hassasiyet ve mekanik zorluklar içeren DUV sistemlerinde bazı ilerlemeler kaydettiği ifade ediliyor.